CIP清洗的過程是什么樣的?
時(shí)間:2023-03-18
2. 清洗:清洗目的是用清潔劑以一定的程序(如固定的方法、清洗時(shí)間等)除去設(shè)備上看不到的產(chǎn)品,這種一致性是進(jìn)行驗(yàn)證的基礎(chǔ)。如果工藝要求使用專門清潔劑的話,則要明確清潔劑名稱、規(guī)格、濃度與配制方法。通常,清洗可采用多步清洗,在二步清洗中可加入淋洗。其中,必須明確規(guī)定清潔劑的名稱、規(guī)格和使用的濃度以及配制該清潔溶液的方法,也要規(guī)定溫度控制范圍、測(cè)量及控制溫度的方法。
3. 淋洗:淋洗的目的是用水以固定的方法與淋洗時(shí)間淋洗設(shè)備表面,以除去設(shè)備上看不到的清潔劑。即除去已溶解的低濃度的殘留物,并使殘留在設(shè)備上的水具有盡可能高的質(zhì)量。此過程將涉及淋洗水的壓力、流速、淋洗維持時(shí)間及水溫等淋洗參數(shù)。
4. 干燥:干燥過程則按實(shí)際而定,有的清洗后均要消毒(滅菌)處理,則此步可同做.
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